皮膚科準(zhǔn)分子氣體-皮膚科準(zhǔn)分子激光預(yù)混氣-安徽譜純氣體科技有限公司

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皮膚科準(zhǔn)分子氣體

作為較先進(jìn)的治療白癜風(fēng)、牛皮癬，白斑病的儀器技術(shù)，最初是美國發(fā)明的，作為較先進(jìn)的治療白癜風(fēng)和牛皮癬，用于皮膚科臨床治療的308 nm準(zhǔn)分子激光是準(zhǔn)分子激光的一種,即氯化氙(XeCl)準(zhǔn)分子激光,屬連續(xù)的脈沖氣體激光,其波長在UVB范圍內(nèi),脈沖寬度一般為l0～30 ns左右。臨床上治療用的激光發(fā)射器有Xtrac ( PhotoMedex,USA ) [ 4～6 ]、Lambda Physics LPX105E[ 2, 3, 7, 8 ]以及其他類型的發(fā)射器[ 9 ] ,常包括XeCl氣體系統(tǒng),由于XeCl二聚體由惰性氣體氙(最外層有8個電子)和鹵素氯(最外層有7個電子)組成,在電流激活時以結(jié)合狀態(tài)存在,而發(fā)出脈沖式激光。不同的激光發(fā)射器參數(shù)略有不同,以Xtrac AL7000為例,其所發(fā)308 nm 激光脈寬為30 ns,重復(fù)頻率為154 Hz,單脈沖能量密度為2～3 mJ / cm2 ,采用液體光導(dǎo)光纖傳輸激光,可形成2 cm ×2 cm的方形光斑,在治療過程中可根據(jù)需要調(diào)整光斑或選擇合適的劑量以達(dá)到較佳治療效果。在臨床用各型激光發(fā)射器均操作方便,操作者可以手持發(fā)射,手柄僅在皮損上移動,均勻照射所有皮損,也可固定于一個部位照射一段時間后,移至臨近部位。

激發(fā)308 nm準(zhǔn)分子激光的重要耗材為XeCl預(yù)混氣體，其實(shí)質(zhì)是Xe,HCl,Ne等氣體針對特定的品牌和機(jī)型按特定的比例預(yù)混的。目前PUREGAS可以提供幾乎市場上所有品牌的皮膚科準(zhǔn)分子激光設(shè)備所用的XeCl預(yù)混氣體

PUREGAS準(zhǔn)分子激光預(yù)混氣的優(yōu)點(diǎn)：

采用高1級別純度的原料氣體

采用自動化氣體預(yù)混系統(tǒng)配制，有效降低人為因素影響

包裝鋼瓶采用特有的的鈍化技術(shù)，有效保證微量HCl,的比例.保證可靠的穩(wěn)定性

提供專1業(yè)的一體化服務(wù)，包括所有皮膚科準(zhǔn)分子設(shè)備的換氣和維修服務(wù)！

21微加工準(zhǔn)分子激光預(yù)混氣

工業(yè)技術(shù)的升級轉(zhuǎn)型需要平衡日益增長的性能需求與加工速度及制造成本之間的矛盾。準(zhǔn)分子激光的誕生，以其高光子能量所稱著，在對突破材料限制需求越來越迫切的時代，準(zhǔn)分子激光器再次站在了尖端工業(yè)激光解決方案的最前沿。作為當(dāng)今最有效、最可靠的脈沖紫外激光技術(shù)的代表，準(zhǔn)分子激光器有效地推進(jìn)了諸如半導(dǎo)體、AMOLED平板顯示、薄膜、硅底板加工、有機(jī)金屬沉淀、高溫超導(dǎo)、刻蝕、材料研究、汽車制造、生物醫(yī)療、光纖、鉆石打標(biāo)設(shè)備及可替代能源等多種成長型工業(yè)中的技術(shù)革新。準(zhǔn)分子激光氣體是用于準(zhǔn)分子激光設(shè)備中的激光發(fā)生器的關(guān)鍵氣體

常見的準(zhǔn)分子激光氣體和波長相關(guān)：

可用波長	193 nm	ArF
	248 nm	KrF
	308 nm	XeCl
	450nm~520nm	XeF

而具體的配比和包裝物和準(zhǔn)分子激光設(shè)備的品牌和型號相關(guān)：

品牌	機(jī) 型	波長	準(zhǔn)分子激光氣體
ATL	ATL ARF-1	193 nm	F2,Ar,Xe,Ne
ATL	ATL KRF-1	248 nm	F2,Kr,Xe,Ne
TUI	CTFTS-ARFV 2.2	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	CTFTS-KRFV 2.1	248 nm	F2,Kr,He,Ne
	CTFTS-KRFV 2.2	248 nm	F2,Kr,He,Xe,Ne
	CTMD-ARFV 2.0	193 nm	F2,Ar,He,O2,Ne
	CTMD-XECLV 2.1	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne
	CTMN-ARFV 2.0	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	CTMN-ARFV 2.1	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	CTMN-KRFV 1.0	248 nm	F2,Kr,He,Ne
	CTMN-KRFV 2.0	248 nm	F2,Kr,He,Ne
	CTMN-XECLV 2.0	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne
	CTMN-XECLV 5.0	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne
	CTMN-XEFV 1.1	450nm~520nm	F2,Xe,He,Ne
	CTMN-XEFV 1.2	450nm~520nm	F2,Xe,He,Ne
GAM Laser	EX5 ArF	193 nm	F2,Ar,He,O2,Ne
	EX5 KrF	248 nm	F2,Kr,He,Ne
	EX5 XeCl	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne
	EX10	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	EX50	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	EX100	193 nm	F2,Ar,He,Ne
Photomedex	XeCl	308 nm	HCl,Xe,Ne
Photoscribe	ArF	193 nm	F2,Ar,Ne
Photoscribe	KrF	248 nm	F2,Kr,Ne
PotomacPhotonics	ArF	193 nm	F2,Ar,Ne
PotomacPhotonics	KrF	248 nm	F2,Kr,Ne
Spectranetics	XeCl	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne

PUREGAS 只需要您提供所用激光設(shè)備的品牌型號和輸出激光的波長，就可以為您提供所需的特定配比的準(zhǔn)分子預(yù)混氣體！

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